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深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
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更新時(shí)間：2024-02-19 20:40:27瀏覽次數(shù)：159次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 紡織服裝機(jī)械網(wǎng)NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過分布能量的支持的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
LSC是占地面積較小，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。
LSC-5000 (AD)全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)應(yīng)用：
光刻膠去除/剝離
硅片
藍(lán)寶石片
圓框架上的芯片
顯示面板
ITO涂覆的顯示屏
帶保護(hù)膜的分劃版
掩模版空白部位
掩模版接觸部位
帶保護(hù)膜/不帶保護(hù)膜的掩模版
LSC-5000(AD)全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)的特點(diǎn)：
支持450mm直徑的圓片或15"x15"方片
帶兆聲、DI、刷子、熱DI、高壓DI、熱氮、化學(xué)試劑滴膠臂的大腔體
帶化學(xué)試劑滴膠的刷子轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)
帶LABVIEW軟件的PC全自動(dòng)控制
觸摸屏用戶界面
機(jī)械手上下載片，帶EFEM以及SMIF界面
安全互鎖及警報(bào)裝置
30"D x 26"W 的占地面積
LSC-5000(AD)全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)選配項(xiàng)：
化學(xué)試劑傳輸模塊
Piranha溶液清洗
臭氧化DI水（20ppm的O3）
氫化的DI水
高壓DI水
熱DI水
溶劑和酸分離排放
IR紅外加熱
DI水循環(huán)機(jī)
耐火立柜
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