MFP Nano plus 4000 模塊化濾料介質測試臺 德國Palas（帕剌斯）中國綜合服務商-北京恒捷利達科技有限公司
帶有U-SMPS的MFP Nano plus 4000 -使用兩個UF-CPC根據DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準在原始和清潔氣體中實時測定餾分分離效率，并檢測MMPS范圍
特點: • 實時測定10 nm以上顆粒的餾分分離效率
• 通過測量原始氣體和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的時間減少一半。
• 無需稀釋！
• 結合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原始氣體中的測量濃度可達2,000,000顆粒/立方厘米（單計數模式），而UF-CPC 50在低濃度潔凈氣體中的計數率對應于稀釋系數為1：200。
• 符合DIN EN 1822-3和ISO 29463-3的國際可比較的測量結果
• 方便地使用不同的測試氣溶膠，例如NaCl / KCl或DEHS（其他可根據要求提供）
• 方便地測量餾分分離效率并確定MPPS范圍
• 測試方法的高重復性
• 靈活的過濾器測試軟件FTControl
• 易于操作，即使未經培訓的人員也可以快速使用設備進行操作
• 客戶可以獨立進行清潔
• 設置時間短，吞吐時間快
• 可移動設置，易于在腳輪上移動
• 在交付前驗收測試和交付時明確驗證各個組件和系統(tǒng)的功能
• 運行可靠
• 幾乎不需要維護
• 減少您的運營費用 |
說明: MFP Nanoplus 4000專門設計用于根據DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準精確地測定HEPA和ULPA過濾介質的分離效率。
本設備是一種現代且功能強大的納米顆粒測量設備，以U-SMPS形式，進行5 nm到1 µm范圍粒度測量和數值分析：
使用MFP Nanoplus 4000和UF-CPC冷凝粒子計數器在原始氣體和清潔氣體中實時測量特定尺寸的分離效率。
MFP Nanoplus 4000餾分分離效率的實時測量具有以下特殊優(yōu)勢：
• 通過測量原始氣體和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的測量時間減半。
• 結合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原料氣中的測量濃度可達2,000,000顆粒/立方厘米（單計數模式），而UF-CPC 50在潔凈氣體低濃度下的計數率對應于稀釋系數為1：200。因此，不再需要常規(guī)的氣溶膠稀釋。
借助通用氣溶膠發(fā)生器UGF 2000，可以使用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產與MMPS范圍相匹配的氣溶膠分布。
測試序列的高度自動化設置以及清晰定義的單個組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨調整程序，共同提供高度可靠的測量結果。
MFP過濾器測試臺是用于扁平過濾器介質和小型微型過濾器的模塊化過濾器測試系統(tǒng)?？梢栽诤芏痰臅r間內確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負荷，既可靠又具有成本效益。
應用領域:
• 在產品開發(fā)和生產監(jiān)控中對過濾介質和小型迷你過濾器進行測試
• 試驗可行性根據DIN EN 1822-3 (HEPA / ULPA) 和ISO 29463-3
• 對其他范圍在約20nm到1μm的過濾介質進行分離效率測量 |
