詳細摘要: Rpo-6型號拋光機主要特點技術化學機械拋光(CMP)是用來對正在加工中的晶片或其他物料進行平坦化處理的過程,而拋光技術則是利用了物理和化學的協(xié)同作用對晶片進行...
產(chǎn)品型號:所在地:南京市更新時間:2024-07-17 在線留言艾泰克儀器科技(南京)有限公司
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