河南酷斯特儀器科技有限公司
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更新時間：2025-01-10 07:40:28瀏覽次數(shù)：30次
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1. 三溫區(qū)真空蒸餾爐設備用途：
本設備采用立式井式爐蓋升降結構，可用于粗硒提純、鉛錫合金、鋅渣（熱鍍鋅渣）、鉛銻合金等有色金屬分離提純小型實驗與探索研究。
2. 三溫區(qū)真空蒸餾爐設備圖
3. 三溫區(qū)真空蒸餾爐 主要技術參數(shù)
3.1 電源：三相 380V 50Hz
3.2 加熱功率：12Kw
3.3 ***溫度：1200℃
3.4．使用溫度1000℃一區(qū)蒸餾熔化***溫度：1000℃二區(qū)冷凝收集溫度：350-600℃
3.5三區(qū)冷凝收集溫度：室溫-100℃
3.6.控溫精度：±1℃
3.7·控溫溫區(qū)：3區(qū)（熔化蒸餾區(qū) 收集區(qū)1收集區(qū)2）
3.8·蒸餾容量：1kg
3.9·蒸餾坩堝尺寸：￠80*80
3.10. 爐罐尺寸：￠400*600mm（以實際設計為準）
3.11控溫方式：S型熱電偶
3.12控溫精度：±1℃
3.13冷態(tài)極限真空度：6.7*10-4Pa（空爐、冷態(tài)、烘烤除氣后）
3.14壓升率：4Pa/h
3.15充氣壓力：≤0.05MPa
3.16控制方式：觸摸屏+plc
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