四種滿足不同的測量要求：
LAS 300 XD HF 測量HF和水分
LAS 300 XD HCL 測量HCL和水分
LAS 300 XD NH3 測量NH3和水分
LAS 300 XD O2 測量氧氣
LAS300 XD CO/O2 同時測量一氧化碳和氧氣
產(chǎn)品優(yōu)勢：
高靈敏度 (可測量ppb, ppm 濃度)
測量不受其他氣體組分干擾
較大的動態(tài)測量范圍
測量：無漂移，不需校準，線性響應(yīng)
實時測量(響應(yīng)時間1秒)
原位式煙道外安裝 (光學技術(shù)）
適用于惡劣現(xiàn)場環(huán)境，傳感器不易被污染（腐蝕）
消除了抽取式方法在采樣過程中的誤差
較低的維護量和維護成本
較低的維護量和維護成本
主要應(yīng)用:
過程分析，燃燒控制，排放監(jiān)測，化工廠，化肥廠
石化工業(yè)，電廠，垃圾焚燒廠，水泥廠，玻璃廠
紙漿和造紙廠，煙氣滌除裝置，生物質(zhì)鍋爐
系統(tǒng)描述：
可調(diào)二極管激光光譜是一種優(yōu)秀的測量技術(shù)，可以對一些氣體組分包括NH3,HCL,HF,CO進行選擇性的快速測量，并能在惡劣的環(huán)境條件下對氧氣進行測量。采用
固態(tài)激光發(fā)射技術(shù)，并將激光光源波長調(diào)制到特定范圍內(nèi)，也被稱為氣體組分的指紋圖譜。
TDLS是一種非接觸的測量方法，因此發(fā)射端光源不存在被污染和腐蝕的風險，維護和運營成本相比其他方法要低很多。得益于快速的A/D轉(zhuǎn)換，直接吸收光譜法（DAS）相比波長調(diào)制光譜法（WMS）更適用于TDIS分析儀。
通過 DAS 技術(shù), LAS 300 分析儀系列可以實現(xiàn)以下功能:
測量非常低的濃度范圍（幾個PPB）
測量非常高的氣體濃度－較大的動態(tài)量程范圍
非常高精度測量（吸收光譜直接與分子結(jié)構(gòu)相關(guān)，采用可靠的信號處理算法，對單一氣體和多組分氣體進行測量）
測量具有非常高的線性相關(guān)性（光譜吸收根據(jù)朗伯比爾定律進行計算）
LAS 300 XD分析儀采用TDL和DAS技術(shù)可以對脫硝過程中氨泄露進行測量，應(yīng)用于SCR，SNCR或者尿素肥料廠的氨氣測量。該設(shè)備同時可應(yīng)用在原煙氣的HCL測量和焚燒過程中低濃度HCL測量. 以及過程控制中CO和氧氣的測量。
