采用W和Mo加熱的金屬爐可以達到超高真空度和超純凈氣氛的操作要求。金屬爐的金屬加熱元件和金屬隔熱屏適合高溫高真空度應(yīng)用,不會與樣品發(fā)生反應(yīng)。
除了可以應(yīng)用高真空條件,還可以根據(jù)需要加載氮氣,氬氣,氫氣或其他混合氣體。
真空度在10-6 至1000 mbar的范圍。
優(yōu)點概述:
- **工作溫度達 2200°C
- 高純度保護氣氛 (6N 或更高)
- 高真空度 (**可達10-6 mbar)
- 動態(tài)高溫, 加熱或冷卻迅速
- 可提供氫氣分壓控制
- 混合氣體中各氣體壓力控制在10 - 1000 mbar
- 溫和地抽真空控制更適合粉末樣品
- 金屬支架
- 可燃性和有毒氣體的安全控制
- 復(fù)合程序控制,全自動操作
- 質(zhì)量管理體系,每日記錄數(shù)據(jù)
應(yīng)用:
釬焊,排氣,燒結(jié),晶體生長,金屬注射成型(MIM)
回火,快速成型,脫膠,合成,干燥