Saphir 560(Rubin 520)是新一代等徑雙盤磨拋機(jī),它采用創(chuàng)新 的磨拋頭,工作盤直徑為200-300 mm。
Rubin 520磨拋頭配備了一個(gè)自動防護(hù)罩,為安全操作設(shè)定了新 標(biāo)準(zhǔn)。單點(diǎn)力和中心力加載、程序存儲、集成的自動 加液系統(tǒng)及材料磨削量精確控制只是其部分功能。
性能指標(biāo)
工作盤 | ? 200-300 mm |
樣品數(shù)量(單點(diǎn)) | 1-6個(gè) 樣品 ? 50 mm |
單點(diǎn)加載壓力 | 5-100 N |
中心加載壓力 | 基于夾持器 |
連接電源 | 5.5 kVA |
運(yùn)行功率(基礎(chǔ)) | 2x 0.75 kW S6/40% |
運(yùn)行功率(研磨控制頭部分) | 0.17 kW S1 |
轉(zhuǎn)速(磨拋機(jī)) | 50 - 600 rpm |
轉(zhuǎn)速(研磨控制頭部分) | 30 -150 rpm |
寬 x 高 x 深 | 1020 x 550 - 650 x 660 mm |
重量 | ~ 110 kg |
水壓 | 1x 進(jìn)水 R?" ** 6 bars |
優(yōu)點(diǎn)
帶有Rubin520的雙盤研磨/拋光裝置
單點(diǎn)力和中心力控制
磨盤速度和動力頭速度可調(diào)
觸摸屏式的電子控制
可儲存程序
動力頭可順時(shí)針/逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)
高度和側(cè)向位置記憶功能