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聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 紡織服裝機(jī)械網(wǎng)edi水處理設(shè)備出水符合標(biāo)準(zhǔn) 超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。 edi超純水裝置-電子行業(yè)超純水系統(tǒng) edi超純水系統(tǒng)工藝流程 預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM) 應(yīng)用領(lǐng)域 電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗 電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水 液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液 晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路 LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏 高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn) 半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗 超純材料和超純......
edi水處理設(shè)備出水符合標(biāo)準(zhǔn)
超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
edi超純水裝置-電子行業(yè)超純水系統(tǒng)
edi超純水系統(tǒng)工藝流程
預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)
應(yīng)用領(lǐng)域
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水
液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
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