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熱絲輔助化學(xué)氣相沉積（HWCVD／HW-PECVD）

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公司名稱深圳海創(chuàng)德科技有限公司
品牌
型號
所在地深圳市
廠商性質(zhì)其他
更新時間2024/9/5 10:01:24
訪問次數(shù)204

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公司介紹主營產(chǎn)品

深圳海創(chuàng)德科技有限公司成立于2012年，由數(shù)位理工科博士創(chuàng)辦，團(tuán)隊(duì)成員均為理工科博士和碩士，具有高水平的專業(yè)水準(zhǔn)。公司致力于半導(dǎo)體微加工及分析設(shè)備的銷售和安裝服務(wù)，產(chǎn)品覆蓋薄膜制備，物性測量和表面分析。經(jīng)營的主要產(chǎn)品如下：1. 磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂膠機(jī)和熱板等薄膜技術(shù)相關(guān)的設(shè)備；2. 美國Kimball Physics的電子槍、離子槍、真空腔體和熒光屏等部件；美國OCI的LEED和AES等各種真空組件；美國MicroXact的真空、低溫和磁場等數(shù)種探針臺；3. 我們還提供上述設(shè)備的配套部件及耗材，如直流和射頻電源、靶材、探針、光刻膠和ALD耗材等。我們的產(chǎn)品性價比高，品質(zhì)精良，性能，在歐美及中國臺灣地區(qū)具有的口碑，國內(nèi)眾多的科研院所和大學(xué)均對我們的產(chǎn)品報(bào)以好評。我們期待以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品，良好的服務(wù)和專業(yè)的技術(shù)為更多的客戶提供解決方案！期待與您的合作！

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產(chǎn)品簡介在線詢價

熱絲輔助化學(xué)氣相沉積(HotWireAssistedChemicalVaporDeposition,HWCVD)是指在加熱絲輔助的條件下進(jìn)行薄膜化學(xué)氣相沉積，適合做高溫的結(jié)晶材料，加熱絲輔助的同時還可以利用等離子體增強(qiáng)線圈進(jìn)一步輔助，從而提高制備出來的薄膜的晶體取向性

熱絲輔助化學(xué)氣相沉積（HWCVD／HW-PECVD）產(chǎn)品信息

熱絲輔助化學(xué)氣相沉積(Hot Wire Assisted Chemical Vapor Deposition, HWCVD)是指在加熱絲輔助的條件下進(jìn)行薄膜化學(xué)氣相沉積，適合做高溫的結(jié)晶材料，加熱絲輔助的同時還可以利用等離子體增強(qiáng)線圈進(jìn)一步輔助，從而提高制備出來的薄膜的晶體取向性。

技術(shù)參數(shù)：

1 基片尺寸可定制；
2 加熱溫度 2000℃；
3 樣品臺加熱溫度500℃；
4 ICP等離子體增強(qiáng)可選；